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Journal Of Microelectromechanical Systems

微機電系統(tǒng)雜志
國際簡稱：J MICROELECTROMECH S

Journal Of Microelectromechanical Systems

SCIE

按雜志級別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 3區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q2 JCR分區(qū)
  • 78 年發(fā)文量
  • 100.00% 研究類文章占比
  • 20.45% Gold OA文章占比
ISSN：1057-7157
創(chuàng)刊時間：1992
是否預(yù)警：否
E-ISSN：1941-0158
出版地區(qū)：UNITED STATES
是否OA：未開放
出版語言：English
出版周期：Bimonthly
影響因子：2.5
出版商：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
審稿周期： 約3.0個月
CiteScore：6.2
H-index：131
出版國人文章占比：0.15
開源占比：0.2209
文章自引率：0.0740...

Journal Of Microelectromechanical Systems雜志簡介

Journal Of Microelectromechanical Systems是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商主辦的工程技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自1992年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號（ISSN：1057-7157，E-ISSN：1941-0158），出版周期Bimonthly，其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動工程技術(shù)專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國際間學(xué)術(shù)交流，為工程技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0.0740...，開源內(nèi)容占比0.2209，出版撤稿占比0，OA被引用占比0，讀者群體主要包括工程技術(shù)的專業(yè)人員，研究生、本科生以及工程技術(shù)領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Journal Of Microelectromechanical Systems已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore（2024年最新版）

  • CiteScore：6.2
  • SJR：0.744
  • SNIP：1.187
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類：Engineering 小類：Mechanical Engineering Q1 140 / 672

79%
大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering Q1 199 / 797

75%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評估，打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標(biāo)的詳細信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比

Journal Of Microelectromechanical Systems中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 4區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 165 / 352

53.3%
學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 28 / 76

63.8%
學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 99 / 140

29.6%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 87 / 179

51.7%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 168 / 354

52.68%
學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 37 / 76

51.97%
學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 73 / 140

48.21%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 83 / 179

53.91%

JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個學(xué)科，每個學(xué)科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 160
2015 235
2016 119
2017 153
2018 130
2019 122
2020 200
2021 129
2022 101
2023 78

期刊互引關(guān)系

被他刊引用情況
期刊名稱 引用次數(shù)
J MICROELECTROMECH S 359
MICROMACHINES-BASEL 298
SENSOR ACTUAT A-PHYS 287
J MICROMECH MICROENG 219
IEEE SENS J 206
MICROSYST TECHNOL 193
SENSORS-BASEL 190
IEEE T ULTRASON FERR 93
APPL PHYS LETT 92
SCI REP-UK 84
引用他刊情況
期刊名稱 引用次數(shù)
J MICROELECTROMECH S 359
J MICROMECH MICROENG 190
SENSOR ACTUAT A-PHYS 163
APPL PHYS LETT 109
IEEE SENS J 66
J APPL PHYS 58
IEEE T ULTRASON FERR 56
LAB CHIP 52
SENSOR ACTUAT B-CHEM 51
NANO LETT 41
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