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Ieee Magnetics Letters

IEEE Magnetics Letters
國際簡稱:IEEE MAGN LETT

Ieee Magnetics Letters

SCIE

按雜志級別劃分: 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 4區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q4 JCR分區(qū)
  • 33 年發(fā)文量
  • 100.00% 研究類文章占比
  • 18.31% Gold OA文章占比
ISSN:1949-307X
創(chuàng)刊時間:2010
是否預(yù)警:否
E-ISSN:1949-3088
出版地區(qū):UNITED STATES
是否OA:未開放
出版語言:English
出版周期:1 issue/year
影響因子:1.1
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
審稿周期:
CiteScore:2.4
H-index:20
出版國人文章占比:0.12
開源占比:0.2229

Ieee Magnetics Letters雜志簡介

Ieee Magnetics Letters是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊,自2010年創(chuàng)刊以來,一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:1949-307X,E-ISSN:1949-3088),出版周期1 issue/year,其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文,提倡學(xué)術(shù)爭鳴,激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新,開展國際間學(xué)術(shù)交流,為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0,開源內(nèi)容占比0.2229,出版撤稿占比0,OA被引用占比0.0183...,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Ieee Magnetics Letters已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用,有助于推動ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore(2024年最新版)

  • CiteScore:2.4
  • SJR:0.314
  • SNIP:0.505
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Materials Science 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 189 / 284

33%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個學(xué)科領(lǐng)域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo),幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標(biāo)的詳細信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比

Ieee Magnetics Letters中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

WOS期刊JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 278 / 352

21.2%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 152 / 179

15.4%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 284 / 354

19.92%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 148 / 179

17.6%

JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個學(xué)科,每個學(xué)科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 26
2015 49
2016 67
2017 88
2018 72
2019 92
2020 66
2021 48
2022 61
2023 33

期刊互引關(guān)系

被他刊引用情況
期刊名稱 引用次數(shù)
J MAGN MAGN MATER 61
IEEE T MAGN 47
IEEE MAGN LETT 42
PHYS REV B 38
APPL PHYS LETT 35
PHYS REV APPL 22
J APPL PHYS 16
AIP ADV 15
SCI REP-UK 14
J PHYS D APPL PHYS 12
引用他刊情況
期刊名稱 引用次數(shù)
IEEE T MAGN 149
PHYS REV B 135
J APPL PHYS 114
APPL PHYS LETT 109
J MAGN MAGN MATER 87
PHYS REV LETT 75
IEEE MAGN LETT 42
SCI REP-UK 34
NATURE 28
J ALLOY COMPD 26
若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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